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染料高剪切超高速分散機優(yōu)勢體現(xiàn)在哪些方面?
2022-06-07產(chǎn)品展示/ Product display
蠕蟲膨脹石墨高剪切分散機利用剪切力、摩擦力或沖擊力將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒*被分離、潤濕、分布均勻及穩(wěn)定目的。
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一、產(chǎn)品名稱概述:蠕蟲膨脹石墨研磨分散機,膨脹石墨烯高剪切設(shè)備,超高速剪切剝離機,管線式在線研磨分散機
二、希德機械高剪切分散優(yōu)勢
SID研磨分散機設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。
高剪切分散機的線速度達51M/S,由3級可調(diào)間隙的錐形定子和4級高速旋轉(zhuǎn)的錐形轉(zhuǎn)子形成研磨模塊,根據(jù)生產(chǎn)要求,剪切研磨間隙可從0.01mm至2mm無級調(diào)速,定轉(zhuǎn)子每一級上的凹槽一級比一級精細,深度,方向的不同增加了流體的揣流。當物料經(jīng)過的時候,形成強有力的擠壓、剪切、乳化、粉碎、混合、分散均質(zhì)及研磨作用。從而得到精細超微粒乳化研磨的較高效益。錐形定子外圍、出料腔體及密封件部位有循環(huán)水冷卻,可根據(jù)用戶的特殊要求提供多功能的可空轉(zhuǎn)式運作。石墨烯研磨分散機結(jié)合乳化機與膠體磨的特長,具有吸、消泡能力。使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊,破碎,研磨,分散,均質(zhì),從而得出超細的顆粒(當然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點可以得出理想的導電石墨烯漿料。
三、石墨烯分散難題
在石墨烯應用的研究中,一個重要的問題就是如何實現(xiàn)其可控功能化。結(jié)構(gòu)完整的石墨烯是由不含任何不穩(wěn)定鍵的碳六元環(huán)組合而成,化學穩(wěn)定性高,其表面呈惰性狀態(tài),與其他介質(zhì)(如溶劑等)的相互作用較弱,并且石墨烯片與片之間有較強范德華力。 容易產(chǎn)生聚集,使其難溶于水及常用的有機溶劑,這給石墨烯的進一步研究和應用造成了很大的困難。為了充分發(fā)揮其優(yōu)良性質(zhì),并改善其成型加工性(如提高溶解性,在基體中的分散性等),必須對石墨烯進行有效的功能化。 通過引入特定的官能團,還可以賦予石墨烯新的性質(zhì),進一步拓展其應用領(lǐng)域。功能化是實現(xiàn)石墨烯分散,溶解和成型加工的zui重要手段。 如果說石墨烯二維晶體的發(fā)現(xiàn)為凝聚態(tài)物理研究開啟了激動人心的一頁, 那么功能化石墨烯及其應用將為化學和材料領(lǐng)域提供新的橋梁和手段。
四、液相剪切剝離過程
液相直接剝離法制備,石液相直接剝離法制備墨烯,,液相直接剝離法,石墨烯研磨分散機,液相直接剝離法制備石墨烯研磨分散機,SID液相直接剝離法制備石墨烯研磨分散機是是利用剪切力、摩擦力或沖擊力將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒*被分離、潤濕、分布均勻及穩(wěn)定目的。
五、蠕蟲膨脹石墨研磨分散機
太倉希德機械技術(shù),*創(chuàng)意,融化理念。將高剪切膠體磨進行進一步的改良,在原來XM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”、“研磨乳化機”。
XMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。
從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。
線速度的計算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SID定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
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